半導体マスク用座標測定機 SAM-300

これから期待されるMEMSや光/パワー半導体用フォトマスク用の超精密寸法測定機です。
9インチフォトマスクまで対応し、ワーク搬送機能付です。

SAM-300

アクティブ除振台付き石定盤上に載ったサーフェイス式XYZステージに、自社製のダブルパス方式He-Neレーザー干渉計測長システムを搭載。

レーザー波長は光学トラッキング方式で補正し、ステージ位置決めはプレーンミラーにより0.3nm分解能で制御します。

撓み補正やグリッド・線幅補正といったソフト補正機能も充実。

型式 有効測定範囲 X,Y
SAM-300 260×260mm
SAM-300
主なアプリケーション
  • 半導体・MEMS用フォトマスク
アプリケーション紹介

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