自動短寸法測定機 μ-Masterシリーズ

LCDのTFTアレイプロセス、及びカラーフィルタープロセスでのCD・オーバーレイ測定に対応する短寸法測定専用モデル。精密座標測定機で培った高いステージ位置決め技術と、高解像度光学顕微鏡、そして進化した専用測定ソフトウェアが、有機ELディスプレイのバックプレーンとしても注目されるLTPS*1の微細なCD・オーバーレイ測定にも完全に対応。さらに高精細フォトマスクの線幅測定までターゲットとしています。*1 LTPS:低温ポリシリコン(Low Temperature Poly-Silicon)

μ-M700
LTPS対応 高解像度顕微鏡

1μmレベルの線幅測定においても安定した精度を実現し、微細なLTPSのCD・オーバーレイ測定を可能にする自社製の高解像度光学顕微鏡を搭載しています。また、幅広い測定レンジに対応するためのレボルバー顕微鏡仕様、カラーフィルター・有機ELパネルの観察用途としてのカラーCCD仕様にも対応します。

近接エリアでの低コントラストのエッジ検出(輝度プロファイル表示)
先進のエッジ検出アルゴリズム

新開発のエッジ検出アルゴリズムにより、従来では検出できなかった、各レイヤーが複雑に隣接するエリアのエッジや、低コントラストのエッジを正確に検出します。LTPSなど、ますます微細化するTFTアレイプロセス管理において欠かせない技術となっています。

タクトタイム短縮機能

レーザーオートフォーカスによるリアルタイムフォーカス、パターンセンタリング削減機能、測定位置学習機能、最短ルート自動設定機能が測定のタクトタイムを最大限に短縮します。よりタクトタイムの短縮が要求される第6世代以上の大型パネル対応機では、2ヘッドでの同時測定が可能なH2モデルをラインナップしています。

レシピ作成の効率化

「測定レシピ作成・編集支援ソフトウェア・レシピメーカー」で作成する測定レシピは、「測定位置情報」と測定内容を記述した「測定マクロファイル」とで構成され、任意に組み合わせでき、それぞれの編集も簡単に行えます。特に同じ位置にレイヤーを重ねていくTFTアレイプロセスにおいては、「測定位置情報」は変更せずに「測定マクロファイル」の内容を書き換えるだけで既存のレシピを他のレイヤーのレシピに変換でき、レシピ作成時間を最大限に効率化します。

レシピ作成
型式 有効測定範囲 X,Y 短寸法再現性
μ-M700 550×650mm 3σ≦30nm
μ-M800 730×920mm
μ-M1100 1100×1300mm
μ-M1500H1/H2 1500×1850mm
μ-M2000H1/H2 2000×2250mm
μ-M2300H1/H2 2300×2600mm
主なアプリケーション
  • LTPSパネル
  • TFTパネル
  • カラーフィルター
  • OLEDパネル
  • フォトマスク
アプリケーション紹介

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